1巻頭言
最近の年に,、として,、継続的に非常に重要となり、品質(zhì)管理プロセスの洗浄の重要性に関連するますます顕著となっている自動(dòng)車(chē),、自動(dòng)車(chē)の製造工程の品質(zhì)管理は,、環(huán)境の汚染を低減する新技術(shù)を使用してパフォーマンスを向上させます,。
洗浄剤,、フロン類(lèi)の特定に取り殘される危険性,、オゾン層破壊物質(zhì)（ODS）のフロン（CFC - 113）および1,1,1 -トリクロロエタン（TCA）は。モントリオール議定書(shū)の下で,、領(lǐng)域の使用を全面的に禁止する必要があります自動(dòng)車(chē)用精密部品,、電子洗浄プロセスの精密部品の製造工程も再し、制定する必要がある制限されていません,。
フロン- 113とTCAの塩素系溶剤の代替品として水の使用を開(kāi)始し,、洗浄剤、,、半水性溶剤ベースの向かっている炭化水素系溶剤としてフロン代替。洗浄剤のしかしに関係なく,、どのようなので,、CFCに徹底的に代わる113とTCAの溶剤は、まだ比較的遠(yuǎn)いされ,、その長(zhǎng)所と短所を持っています,。表1は,、これらの洗浄剤の要約を表です。
表1代替洗浄剤
塩素系溶剤トリクロロエタン（TCE）を,、ジクロロメタン（MC）を
臭素2溶媒を含む-ブロモプロパン（2PB）,、1 -ブロモプロパン機(jī)構(gòu)（NPB）
フッ素系溶剤を含む用HCFC、HFC,、PFCよりhFEが
炭化水素系溶剤の標(biāo)準(zhǔn)アルカン,、のISO -アルカン、シクロアルカン
アルコール溶媒ipaを,、エタノール,、アルコール性高分子を含む
半水性溶媒高分子アルコール（炭化水素）+界面活性剤+水
水、水剤,、アルカリ鹸化,、界面活性剤、水,、機(jī)能的な洗浄に基づい
から表1に,、代替の洗浄剤を選択し、"クリーン性を検討する"と"環(huán)境保全"と"経済の鍵"です,。
浄化力の意味の"クレンジング"は,、再?zèng)Aれ、乾燥の付著を防止する,。 "環(huán)境保護(hù)"の動(dòng)作環(huán)境は,、地球の環(huán)境を意味する。 "経済"機(jī)器や洗浄剤や設(shè)備,、ランニングコストの洗浄の購(gòu)入費(fèi)用を意味する,。
そのため、代替洗浄剤の比較では完全にこれらの要因を分析してください,。さて,、例えば、炭化水素洗浄剤,、有機(jī)溶剤を交換するには,、上記の要因と私たちの技術(shù)です。
代替洗浄剤の2の比較分析
?。?）洗浄剤の洗浄を交換する
精密部品の洗浄車(chē)は,、部品洗浄の様々な形や乾燥が必要です。したがって,、表面張力の代替洗浄剤をポイントし,、蒸発特性の潛熱沸點(diǎn)が重要な要因。表2の洗浄剤の典型的な特性への主要な選択肢を示します,。
表2の洗浄剤の典型的な特徴を主な代替
表面張力蒸発CALの℃潛熱沸點(diǎn)/ gの
HCFC225 16.2 54 34.6
hFEが13.6 61 30
水72.7 100 539.8
炭化水素系溶剤21.1〜170〜66
ipaを20.8 82.3 161.8
ジクロロメタン28.5 39.8 78.7
NPB 25.9 71 58.8
さまざまな形狀や自動(dòng)車(chē)の精密部品,、あるが,、スリット、または細(xì)孔にも部品や小型洗浄剤の効果が良い洗浄の表面張力の成分と重なっています,。加えて,、沸點(diǎn)とは、エネルギー消費(fèi)量の小さい,、ドライ部品の蒸発潛熱も少ないです,。場(chǎng)合、エネルギーのドライ沸點(diǎn)と小さく,、乾燥時(shí)の蒸発潛熱を短くする必要があります,。
除染を使用して洗浄剤、洗浄剤の汚れと混合すると,、その結(jié)果,、汚れ、その後洗浄部品に付著する,。注文には,、再度、汚れの洗浄剤と混合すると汚れのスペア部品の汚染を防ぐために清潔感のある程度を維持する必要があります,。次の方法の清潔さ：洗浄剤,、加工油汚れ沸點(diǎn)の使用を維持し、異なるサイズの異なる要素の割合から,、同様に他の特性を分離することが異なっている,。
水の蒸発の大規(guī)模な潛在的な熱、油を使って水のセパレータの洗浄として,。油水分離裝置油水,、異なる特性の割合を使用することです。膜浄水を使用すると,、再を防ぐために,、汚れのコンポーネントへの付著。膜浄水異なるサイズの原則の要素を使用しています,。
水の代替洗浄剤以外に,、蒸発潛熱のために、再生可能エネルギーの蒸留精製裝置の使用を再び汚染された汚れを防ぐためには小さい,。ポイント蒸留再生デバイスの沸點(diǎn)は異なる原理を使用しています,。場(chǎng)合は、炭化水素系溶剤または溶剤ポイントアルコール高分子高真空蒸留クリーンな再生可能なデバイスを採(cǎi)用する沸騰,。
?。?）別の環(huán)境保護(hù)のための洗浄剤
オゾン層破壊物質(zhì)（ODS）洗剤---フロンフロン（CFC - 113）、および1,1,1 -トリクロロエタン（TCA）は,、環(huán)境保護(hù)のため,、地球の環(huán)境や動(dòng)作環(huán)境、環(huán)境保護(hù)を禁止されている最も重要な課題となる,。表3洗浄剤の環(huán)境に影響を與える主な方法を示します,。
表3剤の洗浄は、環(huán)境に影響を與える主な代替
操作には,、地球の環(huán)境への影響環(huán)境への影響
HCFC225は,、オゾン層を破壊-
hFEが- - -
水- -
炭化水素系溶剤-引火性
ipaを-燃焼性
塩化メチレン-毒性
NPBの損傷は、オゾン層,？毒性,？
調(diào)査中
表3に明確に指摘するには、臭素,、人間の身體に,、いくつかのフッ素系溶剤を含む、地球溫暖化,、オゾン層を破壊する塩素系溶剤や有毒な溶剤を含む,。セミの一部は、溶剤と水水溶液,、洗浄剤のベースは,、廃棄物、水治療法としてホルモンの問(wèn)題は,、環(huán)境に影響を與える,、炭化水素系溶剤および可燃性の有機(jī)溶剤、アルコールの問(wèn)題が含まれます,。
?。?）代替洗浄剤の経済
とCFC - 113、TCAの谷と同じ3つの低溶媒蒸気タンク安く,、水のポイント沸騰ベースまたは高沸點(diǎn)溶剤,、中間、水以上の熱風(fēng)の谷の価格はベース,、または高沸點(diǎn)溶剤,、真空は、最も高価な植物の乾燥させます,。機(jī)器,、洗浄液およびエージェントを使用する洗浄の価格に応じて、運(yùn)用コスト,。表4エージェント行列洗浄の経済への主要な手段です,。
表4、洗浄剤の経済への主要な代替
洗浄裝置の購(gòu)入コストのエージェントのエージェントの使用洗浄クリーニングのコスト
HCFC225安価な程度の高価な
安価な程度の高価なhFEが
水の安い格安媒體
炭化水素系溶剤は、高価で少量の
ipaを中間は,、中間より低い
ジクロロメタン格安格安媒體
NPB格安格安媒體
代替洗浄剤（4）の選択
代替洗浄剤のさまざまな長(zhǎng)所と短所があります,。地域の"浄化"、水ベースの洗浄剤はやや困難です,。 "環(huán)境保護(hù)"では,、塩素系溶剤、臭素系溶剤の環(huán)境が相対的に大きな影響を含むにも,、可燃性の炭化水素系溶剤の問(wèn)題です,。 ""経済的、フッ素を含む有機(jī)溶剤では,、最も高価です,。
3。炭化水素系溶剤洗浄技術(shù)
どのように効果的に長(zhǎng)所と短所の代替洗浄剤を使用するには,、キーは,、同じ洗浄システム上で有効とCFC - 113とTCAの洗浄を使用しています。難燃性に加えて,、環(huán)境にやさしい洗浄システムの炭化水素系溶剤を使用しての使用には影響しないものとする,。
（1）清掃
炭化水素系溶剤精製技術(shù),、およびCFC - 113,、TCAの、加工油,、汚れ,、再生のさまざまな特性の沸點(diǎn)の高沸點(diǎn)炭化水素系溶剤を使用するように蒸留により分離することができます。また,、フロンに比べて113とTCAのは,、高沸點(diǎn)炭化水素系溶剤、可燃性のために,、狀態(tài)の再生の下に蒸留真空する必要があります,。減圧狀態(tài)で多くの場(chǎng)合、沸點(diǎn)で蒸留ポットは,、炭化水素の凝縮液とリサイクルのコンデンサーに蒸著された溶剤,。高沸點(diǎn)の蒸発がない汚れの蒸留ポットのまま、別の洗浄剤です,。この蒸留再生システムを使用して,、洗浄剤クリーンな狀態(tài)に保つことができます。
炭化水素系溶剤システムは,、熱風(fēng)乾燥機(jī),、真空乾燥機(jī),、乾燥した。高沸點(diǎn),、可燃性の炭化水素系溶剤を使用して真空短いメソッド乾燥時(shí)間を乾燥させます,。より効果的に真空乾燥を?qū)g施するために、そこにある必要十分な熱を備えた素材掃除する,。
大気圧170℃程度,、110℃程度の沸點(diǎn)の減圧狀態(tài)（100ミリメートル水銀）の沸點(diǎn)（760mmHg）で,。フロン- 113とTCAの,、蒸気洗浄として、100mmの水銀蒸気の減圧狀態(tài)の洗浄の下で,、90℃の液體の溫度を結(jié)露の炭化水素系溶剤の洗浄表面,。が不可欠であるが、蒸気したがって,、精密部品の洗浄の面では,、最終すすぎの役割は、洗浄されます,。
真空乾燥,、分離された溶媒蒸気、10ミリメートル水銀またはこれまでの真空れます,。図1に10 mmの真空度の水銀は,、炭化水素系溶剤の沸點(diǎn)の蒸気圧力曲線の方法について、約60℃によると,。この時(shí)點(diǎn)で,、約90℃のときに沸點(diǎn)以上のため、耐溶剤性崩壊の狀態(tài)にし,、迅速に乾燥することができますも,、スモールブラインドホール沸騰の接著。したがって,、高沸點(diǎn)を使用する可燃性溶剤,、減圧蒸気洗浄、真空乾燥のため,、それは,、CFC - 113、またはTCAの難燃性と低沸點(diǎn)溶剤などは,、同じ洗浄効果を達(dá)成することができます,。
真空システムのような難燃性と低沸點(diǎn)溶剤、高沸點(diǎn)ポイント可燃性溶剤技術(shù)の具體的な実施態(tài)様である,。
?。?）環(huán)境保護(hù)
操作の環(huán)境への影響炭化水素系溶剤は、主に可燃性の問(wèn)題。炭化水素系溶剤及びCFC - 113を使用して,、同じ必要とするために可燃性の危険を排除します,。燃焼用空気、可燃性物質(zhì)および著火源の3つの要素,。
可燃性の液體表面には,、自分自身の液體、生成されるガスの蒸発による溫度です,。ガスは,、可燃性ガスとして知られている。液體の溫度上昇により,、結(jié)果として可燃性ガス量は徐々に増加した,。場(chǎng)合は、発火源はどこどこに點(diǎn)火するに移動(dòng)します,。この時(shí)點(diǎn)では測(cè)定空気と可燃性ガスの比率は,、この時(shí)間は、下限値は,、液體の引火點(diǎn)溫度として知られて燃えているとして知られる濃度,。
空中では通常の酸素の21％を含んでいます。逆に空気中の酸素の高濃度,、速度,、燃焼は、酸素濃度,、燃焼の低濃度の酸素濃度15％の燃焼速度が低い,。この意味は、可燃性ガスのメモリの特定の範(fàn)囲（引火點(diǎn)引火性ガス）で,、15％以上の酸素濃度は,、かつてのエネルギーの燃焼によって生成されるのに十分な量を、燃焼（爆発）が発生することができます,。
"點(diǎn)火源"が條件のすべての種類(lèi)が,、主に機(jī)械的火花、電気火花,、靜電気火花,。機(jī)械的火花が生成されるときに接觸して超硬合金です。整流子電動(dòng)機(jī),、電気火花手段の開(kāi)閉スイッチ,、ヒューズ、配線や機(jī)器,、短絡(luò)回路を生成するときは,、スパーク,。靜電スパークが悪い指揮者、またはないときに,、放電生成された電荷を攜帯電話に蓄積された?jī)?yōu)れた接地されます,。異種のオブジェクトは、ときに連絡(luò)し,、ときに,、電界、電荷移動(dòng)の重要な値を超える電荷分離の蓄積,。具體的には,、液體ジェットは、スプレー洗浄,、空気の流れの中,、配管の際、靜電気,。
灼熱の3つの條件、可燃性材料の発火源を空気にしてください,。これら3つの條件が,、もし彼らが完全に條件を制御できますが、それを燃やすことはありません,。
防爆型の可燃性の1つの処理を以下の引火點(diǎn)を制御するためです,。一般的な制御引火點(diǎn)溫度範(fàn)囲-15℃です。防爆処理漏れを防ぐために流出している,。容器や配管等の振動(dòng)や腐食に分割,、亀裂、リラクゼーションなどの要因のためには,、外側(cè)に可燃性の物流の問(wèn)題の急速な拡大,、そのために適切な措置を取るにつながる危険度危険な場(chǎng)所の流れをされます。応答では,、全體の液體のダブルタンク,、またはトレイ脫水を設(shè)定します。
防爆型空気処理され,、酸素濃度や可燃性ガス?jié)舛趣违偿螗去愆`ルを參照する,。通常は、1の燃焼の低濃度で可燃性ガス?jié)舛? 4は,、次の,。可燃性の液體を使用すると,、洗浄槽までをカバーするとし,、排気ポートは,、空気の出口を設(shè)定します?？扇夹豫工趣位旌?、ガスを屋外の換気に可燃性ガス?jié)舛趣螇埣婴蚍坤挨郡幛衰氅`ティングされることを余儀なくされます。マイクロ圧力センサの使用を強(qiáng)制換気の確認(rèn),、排気ファンや風(fēng)排気バルブ制御の使用量です,。 15％以上の燃焼の最低酸素濃度。したがって,、効果的な方法は,、十分な窒素酸素濃度を低減します。減圧狀態(tài)では,、炭化水素を使用する場(chǎng)合は,、圧力未満100mmHg以上、急速に上限と下限は,、火炎伝播しない近くの燃焼,、燃焼していません。 ,、100％安全で,、任意の表5は、システムを?qū)毪工氡匾ⅳ胩炕丐卫盲虼_保するために,。
表5は,、完全防爆
真空臨界圧力（真空）1.33 × 10000Pa（100torr）以下の燃焼密封、次の
交換の重要な酸素濃度（窒素を記入）10vol％以下の下のシール
"発火源"1つは,、すべての最初のは,、避けることができない場(chǎng)合は、可燃性ガスとの接觸を避けるためにしようとする電気火花を避けるために,。危険な領(lǐng)域,、防爆構(gòu)造で使用するための電動(dòng)機(jī)のセキュリティのタイプまたは拡張された圧防爆構(gòu)造體の型を強(qiáng)化するため採(cǎi)択される必要があります。コントロールパネルと超音波振動(dòng)子,、等,、一般的に、空気は內(nèi)部圧力の防爆タイプを強(qiáng)化するため構(gòu)造體の型パージ窒素を使用する,。第二に,、電気ストーブに火を熱源です。電気ヒータは,、液體では,、ヒータの表面溫度が上昇するインフレが汚れに熱い空気予熱器の熱交換に、可燃性ガスの侵入をリード配置場(chǎng)所マシンを取ったが,、火災(zāi)が発生する可能性が高いです,。したがって,、一般的ではなく、蒸気やホット油圧作動(dòng)油および間接的な加熱方式を使用して,、電気ヒーターの熱がありません,。
表6の安全基準(zhǔn)
暖房身體間接加熱（蒸気、溫水油圧作動(dòng)油）
機(jī)関の安全防爆構(gòu)造の電気的仕様を強(qiáng)化する
チェーン本體の溫度,、流量,、液面、ガス?jié)舛?、掃除機(jī),、等
超音波振動(dòng)子の內(nèi)部の圧力、防爆構(gòu)造規(guī)格
內(nèi)圧防爆構(gòu)造のコントロールパネルの仕様
自動(dòng)炭酸ガス消火システムでは,、泡消火剤
消火ガスの圧力バッフルリンク
靜的であるにも重要な発火源です,。連絡(luò)先との分離のオブジェクトのさまざまな種類(lèi)のは確かに、完全に靜止することはできません靜電気が生成されます,。ノズルからの流體の場(chǎng)合は,、液體のようなスプレー洗浄、ときに電荷の量が少ないため,、液體の粒子の大口徑は,、圧力噴霧洗浄を最小限に抑える必要があります。
"防爆洗浄裝置"表6に示すようにする必要があります,、一般的な安全性の要件。加熱セクターでは,、電力セクター,、超音波、コントロールパネルで,、発火源等として避けてください,。真空を持ち上げ、チェーン,、組織,、換気機(jī)関は、燃焼範(fàn)囲を設(shè)定しないでください,。この証明システムを使用して,、可燃性の炭化水素系溶剤を使用するだけでなく、フロンと安全- 113と同じ洗浄を達(dá)成することができる効果を乾燥させます,。
?。?）経済
経済的コストでは、炭化水素を使用する溶剤洗浄裝置とCFCの使用を基本的な違いの低沸點(diǎn)溶剤洗浄裝置部分の113や塩素系溶剤,、難燃性施設(shè)の乾燥にある,。通常は,、溶剤、洗浄裝置3,、洗浄槽,、リンス槽と乾燥からスロットタンク構(gòu)成されます。コストの違いは,、主に乾燥した谷を指し,、溶剤を熱風(fēng)沸騰機(jī)関や団體との制度の真空が発生しました。爆発のコストを防セクターの違いは,、デバイス全體の10％を占めている,。
炭化水素系溶剤の面では、ランニングコスト,、代理店の清掃については,、大半を占めて使用する。として,、高沸點(diǎn)炭化水素系溶剤,、以下の用フロンの蒸気消費(fèi)量- 113の50％〜20％です。
4,。自動(dòng)車(chē)用精密部品洗浄
自動(dòng)車(chē)部品の多くは,、さまざまな種類(lèi)の材料も幅広いです。表7に罰金の洗浄,、自動(dòng)車(chē)部品の典型的です,。
表7自動(dòng)車(chē)部品
シリンダヘッドシリンダ
ベーム？焼結(jié)ローターのクランクシャフトポンプ
カムプーリー
精密バルブ部品コンピュータケース
ブレーキブロックのトランク
チューブバルブバッグ
ブレーキ部品ポンプボックス
焼結(jié)體の遊星ギアボックスクランク
先頭へ戻る動(dòng)的透過(guò)部分にクラッチドラム
バルブプレート部品カムローター
ホイールのクラッチ部品を焼結(jié)
加工後,、これらの自動(dòng)車(chē)部品,、スタンピング、などの処理や研磨を作成します,。このプロセスでは,、汚れのすべての種類(lèi)の接著、組み立て前に,、きれいな水で汚れをしなければなりません,。
ほこりの粒子、ほこり,、粉,、バリや油加工油、水溶性切削油を他の固體の切斷,、防錆油,、液體、多種多様な者,。
石油と同様に,、液體の汚れのような,、一般的な洗浄剤の一般的な使用の除去溶解力。固體汚れのように,、高い使用圧力噴霧洗浄,、超音波や振動(dòng)などの物理的な強(qiáng)制的に除去。通常は,、自動(dòng)車(chē)部品の両方の汚れに,、処理剤パワーと物理的な力の清掃洗浄の使用が一般的な解散。